Nanokar Lanthanum Nickel Oxide (LaNiO³) Sputtering Targets – 1" x 0.250"
Teknik Özellikler
- Kimyasal Formül: LaNiO³
- Saflık: %99.9
- Boyut: 1’’
- Kalınlık: 0.250’’
- Kristal Yapı: Perovskit
- Elektriksel Özellik: N-tipi metalik iletkenlik
- Üretim Yöntemi: Sinterlenmiş Seramik
Nanokar LaNiO³ Sputtering Targets – Yüksek Performanslı İnce Film Kaplama Çözümü
Nanokar Lanthanum Nickel Oxide (LaNiO³) Sputtering Targets, elektronik, optoelektronik, enerji depolama ve kataliz uygulamaları için ideal yüksek saflıkta ince film kaplama malzemesidir.
Bu perovskit yapılı oksit, yüksek iletkenlik, termal kararlılık ve oksijen değişim kapasitesi sayesinde solid oksit yakıt hücreleri (SOFC), FRAM bellekler, sensörler ve manyetik uygulamalar için mükemmel bir elektrot malzemesidir.
Öne Çıkan Özellikler
%99.9 Yüksek Saflık – Yüksek teknoloji araştırmaları ve sanayi için uygundur.
Metalik İletkenlik (n-tipi yarıiletken davranışı) – Elektronik ve enerji uygulamalarında kullanılabilir.
Mükemmel Oksijen Değişim Kapasitesi – Yakıt hücreleri ve sensör uygulamalarında yüksek performans sağlar.
Termal ve Kimyasal Stabilite – Aşırı sıcaklık ve zorlu ortamlara dayanıklıdır.
Çeşitli Kaplama Tekniklerine Uygun – PLD, CVD, Sputtering ve diğer ince film kaplama yöntemleriyle uyumludur.
Kullanım Alanları
1. Elektronik ve Optoelektronik Cihazlar
- Ferroelectric Random Access Memory (FRAM) – Ferroelektrik bellekler
- Optoelektronik ve manyetik cihazlarda elektrot kaplamaları
- Yüksek iletkenlikli ince film kaplamalar
- Gaz sensörleri (O² ve etanol dedektörleri)
2. Enerji Depolama & Yakıt Hücresi Teknolojileri
- Solid oksit yakıt hücreleri (SOFC) için elektrot malzemesi
- Batarya elektrotları ve enerji dönüşüm sistemleri
- Güneş pili kaplamaları ve hidrojen üretimi süreçleri
3. Katalizör & Kimyasal Sensör Uygulamaları
- Organik sentezlerde ve karbon nanotüp üretiminde katalizör olarak kullanım
- Hidrojen üretimi ve gaz arıtma süreçlerinde aktif bileşen
- Oksijen basınç ve çevresel gaz sensörleri
LaNiO³ İnce Film Üretim Teknikleri
Nanokar LaNiO³ Sputtering Targets, aşağıdaki kimyasal ve fiziksel kaplama teknikleriyle uyumludur:
?? Kimyasal Yöntemler:
- Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD)
- Metallo-Organik Kimyasal Buhar Biriktirme (MOCVD)
- Kimyasal Çözelti Depozisyonu (CSD)
?? Fiziksel Yöntemler:
- Sputtering (Fiziksel Buhar Biriktirme – PVD)
- Atımlı Lazer Biriktirme (PLD – Pulsed Laser Deposition)
- Mist Plazma Buharlaşma Yöntemi
Nanokar Güvencesi ile Yüksek Kalite!
Nanokar, yüksek saflıkta ve ileri teknolojiye uygun LaNiO³ Sputtering Targets üretmektedir.
Elektronik, optoelektronik, enerji ve kataliz sistemleriniz için Nanokar güvencesiyle en iyi çözümleri sunuyoruz!
Büyük siparişler ve özel üretim talepleriniz için bizimle iletişime geçin!
