Nanokar Lanthanum Manganate (LaMnO³) Sputtering Targets – 8" x 0.125"
Teknik Özellikler
- Kimyasal Formül: LaMnO³
- Saflık: %99.9
- Boyut: 8’’
- Kalınlık: 0.125’’
- Kristal Yapı: Perovskit
- Elektriksel Özellik: Manyeto-rezistif ve iletken özellikler
- Üretim Yöntemi: Sinterlenmiş Seramik
Nanokar LaMnO³ Sputtering Targets – Yüksek Performanslı İnce Film Kaplama Çözümü
Nanokar Lanthanum Manganate (LaMnO³) Sputtering Targets, elektronik, manyetik, sensör ve enerji uygulamaları için yüksek saflıkta, stabil ve güvenilir ince film kaplama malzemesidir.
Bu perovskit yapılı oksit, yüksek manyetik ve elektriksel özellikleri, ısıya dayanıklılığı ve kimyasal stabilitesi sayesinde, manyetik sensörler, spintronik uygulamalar, yakıt hücreleri ve oksijen sensörleri için ideal bir malzemedir.
Öne Çıkan Özellikler
%99.9 Yüksek Saflık – Yüksek teknoloji araştırmaları ve sanayi için idealdir.
Mükemmel Manyeto-Rezistif Özellikler – Manyetik alanla değişen elektriksel direnç sunar.
Yüksek İletkenlik & Oksijen Değişim Kapasitesi – Yakıt hücreleri ve gaz sensörlerinde kullanıma uygundur.
Termal ve Kimyasal Stabilite – Aşırı sıcaklık ve zorlu ortamlara dayanıklıdır.
Çeşitli Kaplama Tekniklerine Uygun – PLD, CVD, Sputtering ve diğer ince film kaplama yöntemleriyle uyumludur.
Kullanım Alanları
1. Elektronik & Sensör Teknolojileri
- Manyetik sensör kaplamaları (GMR, TMR uygulamaları)
- Spintronik uygulamalar
- Oksijen dedektörleri ve gaz sensörleri
- Manyetik Dirençli Bellek (MRAM) kaplamaları
2. Enerji & Yakıt Hücresi Teknolojileri
- Solid oksit yakıt hücreleri (SOFC) elektrotları
- Batarya elektrotları & elektrokimyasal hücreler
- Güneş pili kaplamaları ve hidrojen üretimi süreçleri
3. Manyetik & Optoelektronik Uygulamalar
- Manyetik kaplamalar & ferromanyetik ince filmler
- İleri düzey spintronik malzemeler
- Düşük sıcaklıkta süperiletkenler için elektrot kaplamaları
LaMnO³ İnce Film Üretim Teknikleri
Nanokar LaMnO³ Sputtering Targets, aşağıdaki kimyasal ve fiziksel kaplama teknikleriyle uyumludur:
?? Kimyasal Yöntemler:
- Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD)
- Metallo-Organik Kimyasal Buhar Biriktirme (MOCVD)
- Kimyasal Çözelti Depozisyonu (CSD)
?? Fiziksel Yöntemler:
- Sputtering (Fiziksel Buhar Biriktirme – PVD)
- Atımlı Lazer Biriktirme (PLD – Pulsed Laser Deposition)
- Mist Plazma Buharlaşma Yöntemi
Nanokar Güvencesi ile Yüksek Kalite!
Nanokar, yüksek saflıkta ve ileri teknolojiye uygun LaMnO³ Sputtering Targets üretmektedir.
Elektronik, optoelektronik, enerji ve manyetik sistemleriniz için Nanokar güvencesiyle en iyi çözümleri sunuyoruz!
Büyük siparişler ve özel üretim talepleriniz için bizimle iletişime geçin!
