Nanokar Lanthanum Calcium Manganate (La°.7Ca°.³MnO³) Sputtering Targets – 2" x 0.250"
Teknik Özellikler
- Kimyasal Formül: La°.7Ca°.³MnO³
- Saflık: %99.9
- Boyut: 2’’
- Kalınlık: 0.250’’
- Kristal Yapı: Perovskit
- Elektriksel Özellik: Manyeto-rezistif (CMR) ve yüksek iletkenlik
- Üretim Yöntemi: Sinterlenmiş Seramik
Nanokar La°.7Ca°.³MnO³ Sputtering Targets – Yüksek Performanslı Kaplama Malzemesi
Nanokar Lanthanum Calcium Manganate (La°.7Ca°.³MnO³) Sputtering Targets, elektronik, manyetik ve enerji teknolojileri için stabil, dayanıklı ve yüksek saflıkta bir ince film kaplama malzemesidir.
Bu manyeto-rezistif (CMR) perovskit oksit, manyetik sensörler, spintronik cihazlar ve enerji uygulamalarında yüksek performanslı ve kontrollü film büyümesi sağlar.
Öne Çıkan Özellikler
%99.9 Yüksek Saflık – Araştırma ve endüstriyel kullanımlar için idealdir.
Manyeto-Rezistif (CMR) Özellikler – Direnç değişimini manyetik alan ile kontrol eder.
Yüksek Oksijen Değişim Kapasitesi – Enerji uygulamaları için optimize edilmiştir.
Geniş Kaplama Teknikleri Desteği – PVD, PLD, CVD gibi yöntemlerle kullanılabilir.
Düşük Sıcaklıkta Metal-Yalıtkan Geçişi (MIT) – Sensörler ve elektronik uygulamalar için idealdir.
Kullanım Alanları
1. Elektronik ve Sensör Uygulamaları
- Manyetik sensör kaplamaları (GMR & TMR uygulamaları)
- Spintronik tabanlı cihazlar
- CMR (Colossal Magnetoresistance) Sensörleri
- MRAM (Manyetik Bellek) kaplamaları
2. Enerji ve Batarya Teknolojileri
- Solid oksit yakıt hücreleri (SOFC) elektrotları
- Lityum iyon batarya elektrotları
- Güneş pili kaplamaları ve hidrojen üretimi
3. Manyetik ve Optoelektronik Uygulamalar
- Manyetik kaplamalar ve ferromanyetik ince filmler
- Spintronik tabanlı cihazlar
- Düşük sıcaklık süperiletken kaplamaları
La°.7Ca°.³MnO³ Kaplama Teknikleri
Nanokar La°.7Ca°.³MnO³ Sputtering Targets, çeşitli kimyasal ve fiziksel kaplama teknikleriyle uyumludur:
?? Kimyasal Yöntemler:
- Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD)
- Metallo-Organik Kimyasal Buhar Biriktirme (MOCVD)
- Kimyasal Çözelti Depozisyonu (CSD)
?? Fiziksel Yöntemler:
- Sputtering (Fiziksel Buhar Biriktirme – PVD)
- Atımlı Lazer Biriktirme (PLD – Pulsed Laser Deposition)
- Mist Plazma Buharlaşma Yöntemi
Nanokar Güvencesiyle Yüksek Kalite
Nanokar, yüksek saflıkta ve ileri teknolojiye uygun La°.7Ca°.³MnO³ Sputtering Targets üretmektedir.
Elektronik, optoelektronik, enerji ve manyetik sistemleriniz için Nanokar güvencesiyle en iyi çözümleri sunuyoruz!
Büyük siparişler ve özel üretim talepleriniz için bizimle iletişime geçin!
