Kategoriler

Lantan Nikel Oksit Püskürtme Hedefleri, indiyum, Saflık: %99,9, Boyut: 1'', Kalınlık: 0,125''

Kod
1881
Marka
Fiyat
59.520,00 TL
KDV Dahil
Havale
58.924,80 TL
Adet
0216 526 04 90
Numaralı satış / destek hattımızı arayarak siparişinizi verebileceğiniz gibi,

İletişim formunu doldurarak size geri dönüş yapmamızı da talep edebilirsiniz.

İletişim Formu

Nanokar Lanthanum Nickel Oxide (LaNiO³) Sputtering Targets – 1" x 0.125"

Teknik Özellikler

  • Kimyasal Formül: LaNiO³
  • Saflık: %99.9
  • Boyut: 1’’
  • Kalınlık: 0.125’’
  • Kristal Yapı: Perovskit
  • Elektriksel Özellik: N-tipi metalik iletkenlik
  • Üretim Yöntemi: Sinterlenmiş Seramik

Nanokar LaNiO³ Sputtering Targets – Yüksek Performanslı Kaplama ve Elektrot Teknolojisi!

Nanokar’ın Lanthanum Nickel Oxide (LaNiO³) Sputtering Targets ürünü, elektronik, enerji ve sensör teknolojileri için özel olarak geliştirilmiş yüksek saflıkta, kararlı ve yüksek iletkenlik özelliklerine sahip bir malzemedir.

Bu perovskit tipi oksit, yüksek elektriksel iletkenlik, termal stabilite ve geniş oksijen değişim kapasitesi sayesinde solid oksit yakıt hücreleri (SOFC), ferromanyetik bellekler (FRAM), sensörler ve katalitik sistemler için üstün performans sunar.


Öne Çıkan Özellikler

%99.9 Yüksek Saflık – Düşük safsızlık seviyesi sayesinde yüksek verim ve kararlılık.
Metalik İletkenlik (n-tipi yarıiletken davranışı) – Elektronik ve enerji uygulamaları için ideal.
Mükemmel Oksijen Değişim Kapasitesi – Sensör ve yakıt hücresi uygulamalarında verimli performans.
Termal ve Kimyasal Stabilite – Yüksek sıcaklıklarda ve zorlu ortamlarda dayanıklılık.
Çok Amaçlı Kullanım – Elektronik, sensör ve enerji uygulamaları için ideal malzeme.
Çeşitli Kaplama Teknikleriyle Uyumlu – PLD, CVD, Sputtering ve diğer fiziksel/kimyasal kaplama yöntemlerine uygundur.


Kullanım Alanları

1. Elektronik & Optoelektronik Uygulamaları

  • Ferroelectric Random Access Memory (FRAM) – Ferroelektrik bellekler
  • Manyetik ve optoelektronik cihazlar için metalik elektrotlar
  • Yüksek iletkenlikli ince film kaplamalar
  • Sensörler ve gaz algılama sistemleri (Oksijen basıncı, etanol dedektörleri vb.)

2. Enerji Depolama & Dönüşüm Teknolojileri

  • Solid oksit yakıt hücreleri (SOFC) için elektrot malzemesi
  • Yüksek sıcaklık dayanımı gerektiren batarya bileşenleri
  • Güneş pilleri ve enerji dönüşüm sistemlerinde metalik elektrot kaplamaları

3. Katalizör ve Kimyasal Uygulamalar

  • Karbon nanotüp üretimi ve organik sentezlerde katalizör olarak kullanım
  • Kimyasal sensörler ve aktif elektrokatalitik sistemler
  • Hidrojen üretimi ve çevresel katalitik süreçler

LaNiO³ İnce Film Üretim Teknikleri

Nanokar LaNiO³ Sputtering Targets, çeşitli kimyasal ve fiziksel kaplama yöntemleri ile uyumludur:

?? Kimyasal Yöntemler:

  • Kimyasal Buhar Biriktirme (CVD)
  • Metallo-Organik Kimyasal Buhar Biriktirme (MOCVD)
  • Kimyasal Çözelti Depozisyonu (CSD)

?? Fiziksel Yöntemler:

  • Sputtering (Fiziksel Buhar Biriktirme – PVD)
  • Atımlı Lazer Biriktirme (PLD – Pulsed Laser Deposition)
  • Mist Plazma Buharlaşma Yöntemi

Nanokar Güvencesi ile Yüksek Kalite!

Nanokar, yüksek saflıkta ve ileri teknolojiye uygun LaNiO³ Sputtering Targets üretmektedir.
Elektronik, optoelektronik, enerji ve kataliz sistemleriniz için Nanokar güvencesiyle en iyi çözümleri sunuyoruz!

Büyük siparişler ve özel üretim talepleriniz için bizimle iletişime geçin!

Kredi Kartı Tek Çekim
59.520,00 TL
Havale / EFT
58.924,80 TL  ( % 1 indirim )
İLGİLİ ÜRÜNLER