Kategoriler

İndiyum Çinko Oksit/IZO (InZnO) Püskürtme Hedefleri, Saflık: %99,99, Boyut: 4'', Kalınlık: 0,250''

Kod
1970
Marka
Fiyat
28.128,00 TL
KDV Dahil
Havale
27.846,72 TL
Adet
0216 526 04 90
Numaralı satış / destek hattımızı arayarak siparişinizi verebileceğiniz gibi,

İletişim formunu doldurarak size geri dönüş yapmamızı da talep edebilirsiniz.

İletişim Formu

Nanokar İndiyum Çinko Oksit (IZO - InZnO) Sputtering Targetları

Saflık: %99.99 | Boyut: 4" | Kalınlık: 0.250"

Teknik Özellikler

ÖzellikDeğer
Malzeme İndiyum Çinko Oksit (IZO - InZnO)
Saflık %99.99
Form Seramik Oksit
Boyut 4" (Çap)
Kalınlık 0.250"
Üretim Prosesi Vakum Sinterleme / Sıcak Presleme
Kullanım Alanı İnce Film Kaplama, Yarı İletken İşleme, Optoelektronik, Güneş Hücreleri, Ekran Teknolojileri

İleri Teknoloji Optoelektronik Kaplamalar İçin IZO Sputtering Targetları

Nanokar İndiyum Çinko Oksit (IZO) Sputtering Targetları, %99.99 ultra yüksek saflık seviyesi ile saydam, iletken ve ince film kaplamalar sağlar. IZO, özellikle şeffaf iletken oksit (TCO) uygulamalarında yaygın olarak kullanılır ve LCD, OLED, güneş panelleri ve dokunmatik ekran teknolojileri için kritik bir malzemedir.

Sputtering yöntemi, ince film kaplamalarında yüksek hassasiyet, düşük direnç ve yüksek optik geçirgenlik sağlayarak optik-elektronik cihazlardan yarı iletken üretimine kadar geniş bir uygulama alanına sahiptir.


Nanokar IZO (InZnO) Sputtering Targetlarının Kullanım Alanları

1. Optoelektronik ve Ekran Teknolojileri

  • LCD, OLED ve dokunmatik ekranlar için şeffaf iletken kaplamalar sağlar.
  • Yüksek ışık geçirgenliği ve düşük direnç özellikleri ile optik cihazlarda kullanılır.
  • LED ve güneş panelleri için optik kontak tabakaları olarak görev alır.

2. İnce Film Transistörleri (TFT)

  • İleri düzey ince film transistör üretiminde yarı iletken malzeme olarak kullanılır.
  • Düşük sıcaklıkta üretilebilmesi sayesinde esnek elektroniklerde ve kağıt bazlı devrelerde tercih edilir.
  • Gelişmiş mobil cihaz ekranları için optimize edilmiş ince film çözümleri sunar.

3. Güneş Hücreleri ve Fotovoltaik Kaplamalar

  • Güneş panellerinde yüksek verimlilik sağlayan iletken oksit tabakalar oluşturur.
  • Yenilenebilir enerji sistemleri için düşük dirençli, uzun ömürlü kaplama malzemesi sağlar.
  • Şeffaf ve yüksek geçirgenliğe sahip olması sayesinde güneş hücrelerinin performansını artırır.

4. Yarı İletken ve Mikroelektronik Uygulamaları

  • Mikroçip üretiminde ve entegre devrelerde kaplama malzemesi olarak kullanılır.
  • İleri düzey yarı iletken bileşenlerde izolasyon tabakası olarak görev alır.
  • Düşük sıcaklıkta kaplanabilmesi sayesinde esnek devreler için uygundur.

5. Spektroskopi ve Malzeme Analizi

  • İkincil İyon Kütle Spektrometrisi (SIMS) analizlerinde kullanılarak malzeme saflığı ölçülebilir.
  • X-ray spektroskopisi ve spektrometrik analizlerde malzeme karakterizasyonu için kullanılır.
  • Nanoteknoloji tabanlı malzeme araştırmalarında ileri analiz tekniklerinde tercih edilir.

6. Uzay & Havacılık Uygulamaları

  • Uzay araçlarında ve uyduların yüzey kaplamalarında kullanılabilir.
  • Radyasyon ve kozmik ışınlara karşı koruyucu tabaka görevi görebilir.
  • Uzay aşınmasını (space weathering) önlemek için optik kaplamalarda görev alır.

Neden Nanokar İndiyum Çinko Oksit (IZO - InZnO) Sputtering Targetlarını Seçmelisiniz?

Ultra Yüksek Saflık (%99.99)Optoelektronik ve yarı iletken uygulamalar için üstün iletkenlik sağlar.
Mükemmel Optik & Elektriksel ÖzelliklerŞeffaf iletken kaplama olarak ekran teknolojileri ve güneş hücrelerinde kullanılır.
Geniş Spektrumda UygulanabilirlikLCD, OLED, güneş panelleri, LED'ler ve mikroelektronik bileşenlerde kullanılabilir.
Düşük Sıcaklıkta İnce Film KaplamaEsnek devre üretimi ve hafif elektronik uygulamalar için uygundur.
Ar-Ge ve Endüstriyel Kullanım İçin UygunlukLaboratuvar araştırmalarından büyük ölçekli üretime kadar geniş kullanım alanına sahiptir.

Kredi Kartı Tek Çekim
28.128,00 TL
Havale / EFT
27.846,72 TL  ( % 1 indirim )
İLGİLİ ÜRÜNLER